Silisyum nitrür filmlerin plazmayla büyütülesi, amorf silisyum ince film transistörlere uygulanması

Download

TXpNMk9EZz0.pdf

Date

1997

Author

Katırcıoğlu, Bayram
Atılgan, İsmail
Özder, Serhat
Turan, Raşit

Metadata

Show full item record

This work is licensed under a Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 International License.

Item Usage Stats

166
views

147
downloads

Plazma destekli kimyasal buhar biriktirme düzeneğinde(PECVD) çeşitli taban üzerine, herbiri hidroj enlenmiş amorf silisyum(a-Si:H) ve amorf silisyum nitrür(a-SiNx:H) ince filmler biriktirilmiştir.ODTÜ Fizik Bölümü Katıhal Elektronik Laboratuvannda daha önce gerçekleştirilen çeşitli proje ve tez kapsamında a-Si:H filmlerin en uygun biriktirme koşullan belirlenmişti.Bu çalışmada ise özellikle a-SiNx:H filmlerinin biriktirme koşullan belirlenmiştir.Bu doğrultuda biryandan morüstü/görünür bölge ve kızılaltı spektroskopi teknikleri kullanılmıştır.,öteyandan da a-SiNx:H filmlerinin diyelektrik tabakasını oluşturduğu MİS yapilar üzerine admittans ölçümleri gerçekleştirilmiştir.Böylece uygun biriktirme koşullan belirlendikten sonra geniş yüzey alanlı amorf silisyum tabanlı resimleme ağının birim gözeneğinin iki temel öğesinden birisi olan amorf silisyum ince film transistörler (a-Si:H TFT) üretilmiş ve elektrik özellikleri belirlenmiştir.

URI

https://app.trdizin.gov.tr/publication/project/detail/TXpNMk9EZz0
https://hdl.handle.net/11511/49719

Collections

Department of Physics, Project and Design

Suggestions

OpenMETU
Core

Silisyum tabanlı ışık yayınlayan yapıların üretilmesi Atılgan, İsmail; Katırcıoğlu, Bayram; Özdemir, Orhan; Akaoğlu, Barış; Bazkır, Özcan; Sezer, Oben; Sel, Kıvanç(2001) ODTÜ Fizik bölümü Katıhal Elektronik Laboratuvarı'nda (KEL) bulunan plazma destekli kimyasal buhar biriktirme düzeneğinde (PECVD), çeşitli tabanlar üzerine a-SiCx:H filmler büyütülerek kızıl altı soğurma (FTIR), görünür bölge optik soğurma ve özdirenç ölçümleriyle hem yasak enerji, hem de yapısal düzen yönünden film büyütme koşullan belirlenmiştir. Arkasından n ve p türü kaplama süreçleri de düzenli bir biçimde ele alınarak başarılmıştır. Son olarak, p-i-n yapılar oluşturularak yayınlanan ışık kaydedilip, d...
Linyitle yakılan akışkan yataklı yakıcılarda azot oksit (NOx) emisyonlarının belirlenmesi Değirmenci, Engin; Selçuk, Nevin; Oymak, Olcay; Organ, Levent(1998) Bu çalışmada ODTÜ Kimya Mühendisliği Bölümü'nde kumlu olan 0.3 MW ısıl güçteki akışkan yataklı yakıcı üzerinde tipik bir Türk linyitini temsil eden kül, uçucu madde ve kükürt içeriği kaliteli kömürlere göre yüksek olan Beypazarı linyitinin yakılmasıyla ortaya çıkan NOX ve diğer baca gazlarının $(CO_2, CO, O_2 ve SO_2)$ emisyonları on-line ölçümlerle belirlenmiştir. NOx'in yakıcı boyunca dağılımının ve baca gazındaki emisyonunun fazla hava ve kireçtaşı katkısı ile değişimi incelenmiştir. Bulgular, NOx'in dah...
Polikaprolakton Kompozitlerinin Hazırlanması ve Karakterizasyonu Hacaloğlu, Jale(2018) Bu çalışmada organik düzenleyici kullanılarak modifiye edilmiş Kloisit 30B, C30B, ve Kloisit15A, C15A içeren polikaprolakton, PCL, nanokompozitleri, çeşitli miktarlarda benzendiboronik asit, BDBA, çinko borat, ZnB, ve borik asit, H3BO3 içeren polikaprolaktonkompozitleri ve hem nanokil hem de bor bileşikleri içeren PCL nanokompozitleri hem çözeltide hem de eriyikte harmanlama yöntemleri ile hazırlanmış ve örneklerin morfolojik ısıl vemekanik özellikleri saptanmıştır.
Bor Nitür Nanotüplerin Üretimi Ve Polimer Kompozitlerde Kullanmı Sezgi, Naime Aslı(2011-12-31) Bor ve demir oksit toz karışımı ile amonyak gazının yüksek sıcaklıkta tepkimeye sokulmasıyla bor nitrür nanotüpler elde etmek, elde edilen nanotüplerin karakterizasyonunu yapmak, ektrüzyon yöntemiyle farklı ağırlık yüzdelerinde bor nitrür nanotüp içeren polipropilen kompozitler üretmek ve bu kompozitlerin mekanik ve ısısal özelliklerini ölçerek saf polipropilen ile karşılaştırmaktır. Bu sayede bor nitrür nanotüplerin saf polipropilen üzerindeki geliştirici etkisi ölçülecektir.
Metal iyonların atık sahası kil örtüsündeki dağılım ve difüzyon katsayılarının araştırılması Yazıcıgil, Hasan; Çamur, Mehmet Zeki(2000-10-15) Ca, Cd, Cr, Cu, Fe, K, Mg, Mn, Na, Ni, Pb ve Zn iyonlarının üç farklı sıkıştırma koşullarında Ankara kili malzemesinden hazırlanmış taban bariyerindeki kütle transferi sorpsiyon, etkin difuzyon ve mekanik dispersiyon prosesleri çerçevesinde deneysel olarak çalışılmış ve proseslerle ilgili katsayılar belirlenmiştir. Jeoteknik deneylere göre Ankara kili malzemesi likit limiti 73, plastik limiti 29 ve plastisite indeksi 44 olan yüksek plastisiteli inorganik killer sınıfına girmektedir. Kuvars, kalsit, feldspar...

Citation Formats

B. Katırcıoğlu, İ. Atılgan, S. Özder, and R. Turan, “Silisyum nitrür filmlerin plazmayla büyütülesi, amorf silisyum ince film transistörlere uygulanması,” 1997. Accessed: 00, 2020. [Online]. Available: https://app.trdizin.gov.tr/publication/project/detail/TXpNMk9EZz0.