Hide/Show Apps

Plazmonik Uygulamaları İçin Geniş Alanlı Dielektrik Yüzeylerin Kontrollü Asimetrik Metal Nanoyapılarla Donatımları

Teknolojinin boyutunun her geçen gün küçüldüğü çağımızda, nano üretimin de giderek önemkazanması kaçınılmaz bir sonuçtur. Lakin günümüz araştırmalarında yaygın olarak kullanılannano üretim teknikleri giderek sınırlarına ulaşmaya başlamıştır. Önemli uygulamalarıyla hergeçen gün biraz daha hayatımıza giren plazmonik araştırmaları bu sınırı zorlayanaraştırmaların başını çekmektedir. Bu tür metal nanoyapıların yüksek çözünürluklerle genişalanlara uygulanmasını sağlayan yöntemler ne yazık ki çok sınırlıdır. Bu yöntemler ya yüksekmaliyetleri ya da fazla yapı geometrisi üretimine izin vermemeleri gibi olumsuzlukları daberaberinde getirmektedirler. Deşik maske litografisi (DML) tam da bu konularda nanoüretime yeni bir soluk getirebilecek özelliklere sahip gelişmiş bir nano üretim yöntemidir. Buyöntem ile geniş alanlara, yüksek çözünürlükte ve karmaşık veya basit geometrilerdenanoyapıların düşük maliyetle üretebilmesine olanak tanır.Yüksek uygulanabilirliğe sahip bir temel araştırma projesi olarak nitelendirebileceğimiz buprojede amacımız nano üretim konusunda çok büyük potensiyele sahip bir yöntem olan deşikmaske litografisini geliştirerek gerçek potansiyeline yaklaştırmaktır. Bu yönteminlaboratuvarımızda uygulanması ile plazmonik alınındaki teorik ve deneysel çalışmalarımızıivmelendirmesi, geniş alan üretim desteği sayesinde incelenen yapıların olumlu analizsonuçları vermesi halinde hemen nihai uygulama alanlarında kullanılması beklenmektedir.DML kaplanacak yüzeyden belli bir uzaklığa yerleştirilen altı oyuk deşikten örneğe açılı birşekilde metal buharlaştırılması sonucunda metalin deşik altında tam olarak nereyekaplanabileceğinin bilinebileceği, örneğin açısının kaplama sırasında değiştirilmesiyle deçeşitli geometrilerin üretilebileceği fikrine dayanır. Kaplanacak yüzey üzerindeki deşikleryüzeye ne şekilde yerleştirildiyse deşiklerin altlarında kalan örnek yüzeyinde üretilen nihayinano yapılar da aynı sekilde yerleşecektir. DML geliştirme önerimiz deşiklerin yerleşiminin veçaplarını kontrol edilerek farklı periyotlarda, ayarlanabilir yüzey kapsamaları ve özellikboyutları ile üretilmesini sağlamaktır. Çalışmalarımız sonucunda yapıların yüzeye rastgele ve3 farklı periyodik örgüde yerleşimi sağlanacaktır. Bunun yapılabilmesi için kolloidal nanokürekaplama ve holografik litografi teknikleri kullanılacaktır.Yapacağımız çalışmaların çıktıları DML ile üretilebilecek yapı spektrumunu genişleticektir.DML?nin öneminin önümüzdeki dönemde daha çok araştırmacı tarafından farkedilmesiyleözellikle plazmonik araştırmalarında ve uygulamalarında yaygın kullanılan bir nano üretimyöntemi olacağını öngörüyoruz. Bu yüzden DML?yi şimdiden etkin bir biçimde geliştiripkullanarak hem plazmonik yapıların özelliklerini daha iyi anlamayı, hem de bu yöntemiplazmonik cihazlarda uygulayarak, geleceğin teknolojilerini geliştirmeye bir adım öndebaşlamayı hedefliyoruz.